Apple Motion 5.1.1 - Manual (Página 602)

Capítulo 14 Partículas 602
Aparecerá el parámetro en el editor de fotogramas de referencia dentro de un nuevo grupos de
curvas sin título.
Utilizar máscaras con sistemas de partículas
Tal como se muestra en las siguientes imágenes, puede aplicar máscaras al origen de celda
de un emisor de partículas. El efecto de la máscara sobre el origen de la celda se traslada a las
partículas emitidas.
Original source layer Bezier mask applied
to source layer
Resulting particle system
También puede aplicar máscaras al objeto de emisor en sí.
Rectangle mask (inverted) applied
to the emitter object
Para obtener más información sobre cómo trabajar con máscaras, consulte Introducción a las
máscaras y la transparencia en la página 970.
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