K-Patents PR-33-AC Manual del usuario

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6 Configuration and calibration

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La válvula de muestreo y el refractómetro deben estar instalados a corta distancia

el uno del otro dentro del proceso.

!

Advertencia! Utilice un equipo de protección individual adecuado para su proceso al

utilizar la válvula de muestreo y manipular la muestra.

Mueva la muestra antes de empezar recopilar puntos de datos, para evitar el mues-

treo de líquidos de proceso antiguos que hayan podido quedar en la válvula de

muestreo.

Lea los valores

CALC

,

T

(emp),

nD

y

CONC

exactamente al mismo tiempo que el

muestreo.

Utilice un recipiente hermético para almacenar la muestra, para evitar así la evapo-

ración.

Importante: La calibración fuera de línea con líquido de proceso muy rara vez produce

resultados fiables, dado que sufre problemas causados por:

un flujo lento, que hace que la muestra forme una película no representativa sobre

el prisma

evaporación de la muestra a altas temperaturas o sólidos no disueltos a bajas tem-

peraturas, que producen desviaciones respecto de las determinaciones de labora-

torio

una muestra envejecida y no representativa

exposición del prisma a la luz externa

Thus La calibración con el líquido de proceso debe realizarse siempre en línea.

6.2.3 Ajuste directo de desviación

El valor de medición de la concentración también puede ajustarse directamente cam-

biando el parámetro de ajuste de campo f00. El ajuste de desviación resulta adecuado

para situaciones en las cuales la diferencia entre las lecturas del refractómetro y las de

laboratorio es pequeña y cuando no existe una clara dependencia entre la corrección

y la temperatura o la concentración.

Por otro lado, si los puntos de la calibración de campo corresponden a un intervalo

reducido de concentración y temperatura, el ajuste de desviación suele ser la mejor

opción.

El valor del parámetro de desviación f00 se sumará al valor de concentración:

NEW CONC

=

OLD CONC

+

f00

.

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