K-Patents PR-33-AC Manual del usuario
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6 Configuration and calibration
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La válvula de muestreo y el refractómetro deben estar instalados a corta distancia
el uno del otro dentro del proceso.
!
Advertencia! Utilice un equipo de protección individual adecuado para su proceso al
utilizar la válvula de muestreo y manipular la muestra.
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Mueva la muestra antes de empezar recopilar puntos de datos, para evitar el mues-
treo de líquidos de proceso antiguos que hayan podido quedar en la válvula de
muestreo.
−
Lea los valores
CALC
,
T
(emp),
nD
y
CONC
exactamente al mismo tiempo que el
muestreo.
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Utilice un recipiente hermético para almacenar la muestra, para evitar así la evapo-
ración.
Importante: La calibración fuera de línea con líquido de proceso muy rara vez produce
resultados fiables, dado que sufre problemas causados por:
−
un flujo lento, que hace que la muestra forme una película no representativa sobre
el prisma
−
evaporación de la muestra a altas temperaturas o sólidos no disueltos a bajas tem-
peraturas, que producen desviaciones respecto de las determinaciones de labora-
torio
−
una muestra envejecida y no representativa
−
exposición del prisma a la luz externa
Thus La calibración con el líquido de proceso debe realizarse siempre en línea.
6.2.3 Ajuste directo de desviación
El valor de medición de la concentración también puede ajustarse directamente cam-
biando el parámetro de ajuste de campo f00. El ajuste de desviación resulta adecuado
para situaciones en las cuales la diferencia entre las lecturas del refractómetro y las de
laboratorio es pequeña y cuando no existe una clara dependencia entre la corrección
y la temperatura o la concentración.
Por otro lado, si los puntos de la calibración de campo corresponden a un intervalo
reducido de concentración y temperatura, el ajuste de desviación suele ser la mejor
opción.
El valor del parámetro de desviación f00 se sumará al valor de concentración:
NEW CONC
=
OLD CONC
+
f00
.